管式炉具有操作简单、保温效果好、控温精度高、温度范围大以及可通气氛等特点，主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，应用于高、中、低温CVD工艺，如碳纳米管的研制，晶体硅基板镀膜，金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理等。
 

　　在使用过程中，因操作不当的因素，很容易导致设备出现真空度不高的情况，从而影响设备的使用效率，无法达到使用标准，对此，我们应该如何进行抽真空操作，从而保证设备的使用。

　　然而为了节约成本，我们根据抽真空的目的是排除氧气，我们可以向管式炉内部充入氮气、氩气等惰性气体，降低氧气浓度从而达到实验材料不会出现氧化还原现象，操作步骤如下：
 

　　1、首先，我们将接上真空泵和氮气瓶，然后将所有阀门关闭，打开真空泵和真空阀门，观察压力表等到真空泵真空度稳定后，关闭真空阀门和真空泵；
 

　　2、然后打开气瓶打开进气阀门，等到压力表恢复常压后，关闭进气阀门；
 

　　3、此时炉内空气浓度降低，但空气仍有残留，我们重复上述步骤，即可得到更高纯度的氮气从而排除空气，如需更高纯度的实验可多次重复上述步骤。注意打开和关闭泵阀气瓶顺序。
 

　　部分实验室管式炉需要在真空内实验，真空泵度很高，但是达不到实验要求，可能是抽完真空后直接关闭真空泵没有关闭真空阀门，因为真空泵不工作状态会回流空气，从而导致空气进入炉管内，我们只需在抽完真空后先关闭真空阀门即可解决此类问题。