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2000℃真空烧结炉
参考价:¥350000

型号:

更新时间:2024-04-19  |  阅读:4262

详情介绍

一、产品应用

多功能炉可在同一炉体内实现真空、脱脂、预烧结、气压烧结、热压烧结及快冷,生产工序一次性完成,较好的提升生产效率和产品质量。可实施在氩气、氮气和还原性气分保护下低压力烧结,减少元素挥发损失。定向压差气流脱脂,强化脱脂效果,炉内无藏脂死角,脱脂更加*。

主要应用领域有:

1、硬质合金、CIM、MIM等可进行脱蜡,脱气,烧结及连续处理。
2、非氧化物系列陶瓷,氮化硅,碳化硅,可进行脱蜡,脱气,烧结及连续处理。
3、各种金属,可进行脱蜡,脱气,烧结,续处理。
4、石墨,脱气,提纯的连续处理。

二、产品特点

1根据炉温高低和工艺要求,采用石墨发热体及隔热屏。发热体可分成多区布置;各区独立控温,可编程PID调节温度准确均匀。  

2、石墨加热元件、石墨毡隔热层,设计温度可达2200℃,加热温度均匀性高,寿命长。

3、脱气,脱蜡,烧结连续处理:脱脂密封箱和捕脂器,无内炉壁、隔热屏及发热体污染,脱脂与集脂更加有效,密封箱有利于改善炉温均匀性。

4、拥有形式多样的处理业绩:可对应形式多样的处理。可对应从低温的热处理到烧制陶瓷等的高温处理。

5、充气流量控制,炉内压力控制装置,实现微负恒压烧结,抑制金属挥发损失,改善产品致密性及质量。

6、具有安全互锁、故障诊断和异常报警等功能。
7、准确可靠的人性化图形操作界面(人机对化触摸屏)和模拟操作屏。

三、技术参数

型号

PVPgr-10/12-2000(G1)

PVPgr-20/25-2000(G2)

设计温度(℃)

2000

2000

控温精度(℃)

±1

±1

温度均匀(℃)

±5

±5

真空度范围

6.7x10-3

6.7x10-3

充气体种类

氮气/氩气

氮气/氩气

热压产品直径(mm)

≤30

≤50

气压产品直径(mm)

≤80

≤160

①机械压力(T)

5

10

②气体压力(MPa)

1

1

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