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化学气相沉积炉(CVD系统)
参考价:¥25000

型号:

更新时间:2024-05-28  |  阅读:15049

详情介绍

一、产品应用

高真空CVD系统是一款专业在沉底材料上生长高质量石墨烯、碳纳米管、碳化硅的设备,广泛应用于在半导体、纳米材料、碳纤维、碳化硅、镀膜等新材料新工艺领域。

化学气相沉积炉(CVD系统)

CVD系统


二、产品特点

 

高真空CVD系统主要由高温腔体、石英管、石英支架、气路系统、分子泵机组、自动化控制系统、冷却系统等组成。

 

1、沉底材料可采用铜箔、石墨等;

 

2、生长腔体采用进口高纯石英管,配石英支架、为石墨烯等材料的生长提供洁净环境;

 

3、炉膛采用进口高纯氧化铝多晶体纤维,不易掉粉、寿命长且保温性能好。加热丝采用优质掺钼铁铬铝合金加热丝,温场均匀,能耗低;

 

4、密封法兰均采用不锈钢材质,配水冷套,可连续长时间工作;

 

5、气路系统采用两路质量流量计(可拓展多路),配预混系统;

 

6、气体种类: He/Ar、C2H2、NH3、N2, H2、PH3、GeH4、B2H6;


7、温度、气体、真空、冷却水等通过PLC控制,通过PC实时控制和显示相关的实验参数,自动保存实验参数,也可采用手动控制;

8、系统采用集成化设计,控制系统、混气罐、质量流量计等均内置在箱体内部,占地面积小。整体安装四个可移动轮子,方便整体移动。


三、技术参数


           

型号

           


           


           

HTF1200-2.5/20-2F-LV


           

HTF1200-5/20-4F-HV


           

HTF1200-6/40-2M-LV

           


           


           

HTF1200-8/40-4M-HV

           


           


           

设计温度(℃)


           

1200

           


           


           

1200

           


           


           

1200

           


           


           

1200

           


           


           

控温精度(℃)


           

±1

           


           


           

±1

           


           


           

±1

           


           

±1


           

加热区直径(mm)


           

25

           


           


           

50

           


           


           

60

           


           


           

80

           


           


           

加热区长度(mm)


           

200

           


           


           

200

           


           


           

400

           


           


           

400

           


           


           

加热管长度(mm)


           

450

           


           


           

450

           


           


           

1000

           


           


           

1000

           


           


           

恒温区长度(mm)


           

80

           


           


           

80

           


           


           

150

           


           


           

150

           


           


           

额定电压(V)


           

220

           


           


           

220

           


           


           

220

           


           


           

220

           


           


           

额定功率(KVA)


           

1.2

           


           


           

1.2

           


           


           

3

           


           


           

3

           


           


           

真空机组


           

HTF-101

           


           


           

HTF-103

           


           


           

HTF-101

           


           


           

HTF-103

           


           


           

供气系统


           

HTF-2F

           


           


           

HTF-4F

           


           


           

HTF-2M

           


           


           

HTF-4M

           


           


 
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