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V2MS17-真空氧化炉
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更新时间:2024-07-16  |  阅读:608

详情介绍

一、设备基本原理与特点

1. 基本原理

真空硅钼棒炉为气体保护多用途炉,可满足在还原气体或成型气体气氛中对蓝宝石退火,还原、烧结和表面处理等工艺需要,广泛应用于航空航天、金属材料、粉末冶金、陶瓷产品、半导体器件、厚膜电路、磁性材料等领域

2.设备特点

1)具备完善的报警功能,更的安全连锁保护系统;

2)完善的气氛控制系统,满足各种工艺需要;

3)高性能优质电气元件保证设备长期运行的稳定可靠性;

4)低负荷加热器,可有效提高设备的使用寿命。

二、主要技术参数

编号

V2MS17

产品型号

VHSms-20/20/30-1700

最高设计温度(

1700

加热元件

硅钼棒

加热功率(kW

12

冷态极限真空度( Pa

 6.7x10-2Pa(空炉、冷态、经净化)

测温元件

钨铼热电偶

升温速率

1~10℃/min

温度均匀性

±5℃(5点测温,恒温区1000℃保温1h后检测)

炉膛尺寸(mm)

200x200x300(WxHxD)

可充气氛

氮气/氩气一路

设备外形尺寸( mm

1425x1550x1850mm(DxWxH)







 
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